目前常用的（de）拋光方法有幾種（zhǒng）呢？

隨著塑料製品日溢廣泛的應用，如日化用品和飲料包裝容器等（děng），外觀的需要往往（wǎng）要求塑料模具型腔的表麵達到鏡麵拋光的程度。而生產光學鏡片、鐳（léi）射（shè）唱片等模具對表（biǎo）麵粗糙度要求極高（gāo），因（yīn）而對拋光性的（de）要求也極高。

　　1 機械拋光（guāng）

　　機械拋（pāo）光（guāng）是（shì）*切削、材料表麵塑性變形去掉（diào）被拋（pāo）光（guāng）後的凸（tū）部而得到平滑麵的拋光方法（fǎ），一般使（shǐ）用油石條、羊毛（máo）輪、砂紙等，以手工（gōng）操作為主，特（tè）殊零件如回轉體表麵，可使用（yòng）轉台等輔助工具，表麵質量 要求高的可采用超精（jīng）研拋的方（fāng）法。

　　超精（jīng）研拋是采用特製的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工（gōng）件（jiàn）被加工表麵上，作高速（sù）旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各種拋光方法中最（zuì）高的。光學鏡片模具常采用這（zhè）種方法。

　　2 化學拋光

　　化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶（róng）解，從而得到平滑麵（miàn）。這種（zhǒng）方法的主要（yào）優點是不需複雜（zá）設備（bèi），可以拋光形（xíng）狀（zhuàng）複雜的（de）工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的（de）配製（zhì）。化學拋（pāo）光得到的表麵粗糙度一般為數10μm。

　　3 電解拋光

　　電（diàn）解拋光基本原理與化學（xué）拋（pāo）光相同，即*選擇性的溶解材（cái）料表麵微小凸出部分，使表麵光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果較好（hǎo）。電化（huà）學拋光過程分為兩步：

　　（1）宏觀整平 溶解產物向（xiàng）電解液中擴散，材料表麵幾何粗糙下降，Ra＞1μm。

　　（2）微光平整 陽極極化，表麵（miàn）光亮（liàng）度提高，Ra＜1μm。

　　4 超聲（shēng）波拋光

　　將工件放入磨（mó）料懸浮液中並一起置於超聲波場中（zhōng），依*超聲波的振蕩作用，使磨（mó）料在工件表麵磨削拋光。超聲波加（jiā）工宏觀力小（xiǎo），不會引起工件變形，但工裝製作和安裝較困（kùn）難。超聲波（bō）加工可（kě）以（yǐ）與化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上，再（zài）施（shī）加超聲波振動攪拌溶液，使（shǐ）工件表麵溶解產物脫離，表（biǎo）麵附近的腐蝕或電解質（zhì）均（jun1）勻；超聲波在（zài）液體中的空化作用還能夠抑製腐蝕過程，利（lì）於表麵光亮化

　　5 流體拋光

　　流（liú）體拋（pāo）光是依*高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表（biǎo）麵達到拋光的目的。常（cháng）用方法有：磨料（liào）噴射加工、液體噴射加工、流體動力（lì）研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體（tǐ）介質（zhì）高速往（wǎng）複流過工件表麵。介質主要采用在較低壓（yā）力下流過性好的（de）特殊化（huà）合物（wù）（聚（jù）合物狀物質）並摻上磨料製成，磨（mó）料可采用碳化矽粉（fěn）末。

　　6 磁研磨拋光

　　磁研磨拋光（guāng）是利（lì）用（yòng）磁性磨料在磁場作用下形（xíng）成（chéng）磨料刷，對工件磨削加工。這（zhè）種（zhǒng）方法加工效率高，質量好，加工條件容易控（kòng）製，工作條件好。采用合適（shì）的磨料，表麵粗糙度可（kě）以達（dá）到（dào）Ra0.1μm。

　　在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中所要求的表麵拋光有很大的（de）不（bú）同，嚴格（gé）來說，模具的拋光應該稱為鏡（jìng）麵加工。它不僅對（duì）拋光本（běn）身有（yǒu）很高的要求（qiú）並且對表麵平（píng）整度、光滑度以及幾何精確度（dù）也有很高的標準。表麵拋光一般隻（zhī）要求獲得光亮的表麵即可。

　　標簽（qiān）：深圳塑膠模具廠